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無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技股份有限公司年新增研發(fā)20臺(tái)半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備項(xiàng)目

發(fā)布者:無(wú)錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責(zé)任公司 發(fā)布時(shí)間:3/13/2025 10:24:49 AM 點(diǎn)擊次數(shù):2461 關(guān)閉

項(xiàng)目名稱:年新增研發(fā)20臺(tái)半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備項(xiàng)目

建設(shè)單位:無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技股份有限公司

地址:江蘇省無(wú)錫市新吳區(qū)長(zhǎng)江南路35-312號(hào)、35-321號(hào)

環(huán)境影響評(píng)價(jià)機(jī)構(gòu):無(wú)錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責(zé)任公司

聯(lián)系電話:0510-68566079

郵箱:1xhb668@163.com

公眾提出意見的主要方式:電話、郵件

公示日期為2025年3月13日-2025年3月19日

無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技股份有限公司年新增研發(fā)20臺(tái)半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備項(xiàng)目