尚積半導(dǎo)體年產(chǎn)200臺薄膜沉積設(shè)備、50臺刻蝕設(shè)備項目

發(fā)布者：無錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責(zé)任公司發(fā)布時間：9/29/2026 5:42:29 PM 點擊次數(shù)：310 關(guān)閉

按照《建設(shè)項目環(huán)境影響評價政府信息公開指南》（試行）中相關(guān)要求，現(xiàn)將該項目環(huán)境影響評價有關(guān)信息公示如下：

建設(shè)單位：無錫尚積半導(dǎo)體科技股份有限公司

項目名稱：尚積半導(dǎo)體年產(chǎn)200臺薄膜沉積設(shè)備、50臺刻蝕設(shè)備項目

建設(shè)地址：無錫市新吳區(qū)高新區(qū)內(nèi)環(huán)一路以東、長江東路以北，雪梅路以西地塊

環(huán)境影響評價機構(gòu)：無錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責(zé)任公司

聯(lián)系電話：0510-68566079
郵箱：lxhb668@163.com
公眾提出意見的主要方式：電話、郵件

公示日期為2026年9月29日-2026年10月10日

電話：13812505289

郵箱：552168536@qq.com

地址：無錫市新吳區(qū)龍山路2-18號融智大廈E幢1302室

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